簡要描述：

日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡
與現有機型相比分辨率提高了20％左右
　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
　　采用污染小、高真空樣品倉
　　運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

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詳細介紹

日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000

日本日立HITACHI超高分辨場發射掃描電子顯微鏡Regulus系列的詳細介紹

　　沿用"SU8200系列"的冷場發射電子槍*2

　　采用電子束在Flashing后出現的高亮度穩定區域作為穩定觀察的區間，使得低加速電壓條件下兼備高分辨觀察和分析的佳性能

　　與現有機型相比分辨率提高了20％左右

　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)

　　采用污染小、高真空樣品倉

　　運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

　　極低著陸電壓下高分辨觀察日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體器件，高分辨成像所設計。

新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。

0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）

用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
采用設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。

日立科學儀器（）有限公司為您提供日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000的參數、價格、型號、原理等信息，日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000產地為日本、品牌為日立，型號為SU9000，價格為面議，更多相關信息可，公司客服電話7*24小時為您服務

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日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡
與現有機型相比分辨率提高了20％左右
　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
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日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡與現有機型相比分辨率提高了20％左右 (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV) 采用污染小、高真空樣品倉 運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2

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日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡
與現有機型相比分辨率提高了20％左右
　　(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
　　采用污染小、高真空樣品倉
　　運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2